Печи CVD, CVI и графитизации

Печи CVD, CVI и графитизации

ООО «Интеллектуальные робот системы» совместно со стратегическим партнером HHV спроектировала и разработала ряд индивидуальных высоковакуумных и высокотемпературных печей CVD, CVI и графитизации с удобными функциями для производства углеродных и керамических композитов.

Термически индуцированное газофазное осаждение (англ.: chemical vapor deposition, CVD) представляет собой высокоэффективную возможность осаждения равномерных покрытий из различных диэлектрических, полупроводниковых и металлических материалов (либо в моно- / поликристаллическом, аморфном, либо в эпитаксиальном состоянии) на малых или больших подложках

Термически индуцированная инфильтрация газовой фазы (англ.: chemical vapor infiltration, CVI) – это технология на базе метода CVD для инфильтрации матричного материала в пористых или волокнистых заготовках с целью изготовления изделий из композитных материалов с улучшенными механическими свойствами, коррозионной устойчивостью, устойчивостью к термоударам и малым внутренним напряжением.

Технические характеристики